濺射靶材： 濺射靶材按形狀分類：矩形平麵靶材（cái）、圓形平麵靶材、圓柱靶材

濺射靶材按成分分類：單質金屬靶材、合金靶材、陶瓷靶材

平麵靶材利用率比較低，隻有30%左右，沿著環形跑道刻蝕。 

靶材冷卻與靶背板 

1. 靶功率密度與靶材冷卻（què）：靶功率越大（dà），濺射速度越大；靶允許的功率與靶材的性質及冷卻有關；靶材采用直接水冷，允（yǔn）許的靶功率高。

2. 靶背板 target backplane

使用場合：ITO,SiO2,陶（táo）瓷等脆性靶材及燒（shāo）結靶材Sn(錫）, In（銦）等軟金屬靶；靶材太薄、靶材太貴

材質要求：

導熱性好---常用無氧銅，無氧銅的導熱性比紫銅好；強度足夠---太薄，容（róng）易變形（xíng），不易（yì）真空密（mì）封。 

結構： 

空心或者實心結構---磁鋼不泡或泡在冷水中；厚度適當---太厚，消耗部分磁強（qiáng）；太薄，容易變形。