什麽是PVD 技術 

PVD-物理氣相沉積：指（zhǐ）利用物（wù）理過程實現物質轉移（yí），將（jiāng）原子或分子由源轉移到基材（cái）表麵上的過程。

它的作用是可以（yǐ）使某些有特殊性能（強度（dù）高、耐磨性、散熱性、耐（nài）腐性等（děng））的（de）微粒噴塗在性能較低的母體上，使得母體具有更好（hǎo）的性能。

PVD基本方法：真空蒸鍍、濺鍍 、離子鍍（空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性（xìng）反應離子鍍、射頻離子（zǐ）鍍、直流放電離子鍍）。

PVD 技術是目前國際上科技含（hán）量高且被廣泛應用的（de）離子鍍膜（mó）技術，它具有 鍍膜層致密均勻、附著力強、鍍性好（hǎo）、沉積速度快、處理溫度低、可鍍材料廣泛等特點.

PVD 本身鍍膜過程是高溫狀態下，等離子場下的輝光（guāng）反應，亦是一個高淨化處理過程；鍍層的主要原材料是以鈦金屬為主，鈦是金屬中最與人體皮膚具（jù）親和（hé）性能的，使得PVD 產（chǎn）品（pǐn）本身具備（bèi）純淨的環保性能（néng）。