氣體的分布狀況對（duì）於平板基片鍍膜（mó）來說是極其重要的，通過機械（xiè）結構設計，使氣體密度的變化率在濺射沉積區域內的盡量小。

而在區域外，使係統的流導盡量的大，以提高氣體的利用率和抽氣係統（tǒng）的效率。

控製氣（qì）體分布的機械部件或結構包括布氣係統、真空室（shì）的結構、抽（chōu）氣係統等三個部分。