濺（jiàn）射靶材具（jù）有高純度、高密度、多組元、晶（jīng）粒均（jun1）勻（yún）等特點，一般由靶坯和背板組成。

靶坯屬於濺射靶材的核心部分，是高（gāo）速離子束（shù）流轟擊的目標（biāo）材（cái）料。

靶坯被離（lí）子撞擊（jī）後，其表麵原子被濺射飛散出來並沉積於基板上製成電子薄膜。

由於高純度金屬強度（dù）較低，因此（cǐ）濺射靶材需要在高（gāo）電壓、高真空的機台環境內完成（chéng）濺射過程。

超（chāo）高純金屬的濺射靶坯需要與背（bèi）板通過不同的焊接（jiē）工藝進行接合，背板起到主（zhǔ）要起到固定濺射靶材的作用，且需要（yào）具備（bèi）良好的導電、導熱性（xìng）能。