浦元（yuán）真空帶你了解真空蒸發鍍膜法的概念（niàn）：

1.基本原理（lǐ）：真空蒸發鍍膜法（簡稱真（zhēn）空蒸鍍）是在真空室中加熱蒸發容（róng）器中待形成薄膜的原材料使其原子或分子從表麵氣化逸出，形成蒸汽流（liú）入射（shè）到固體（稱（chēng）為襯底或基（jī）片）表（biǎo）麵凝結形成固態薄膜（mó）的方法。 

2.真空蒸鍍時尤其是對真空環境的要求更嚴（yán）格其原因有：

A.防止在高（gāo）溫下因空氣分子和蒸發源發生反應；

B.防（fáng）止因蒸發物質的分子在鍍膜室內與空氣分子碰撞；

C.防止空氣分子作為雜質混入膜內或者在薄膜中形成化合物；

3.設備：真空鍍膜室和真空抽氣係統兩大部分組成（chéng）。真空（kōng）鍍膜室內裝（zhuāng）有蒸發源、被蒸（zhēng）鍍材料、基片支架及基片等。