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真空蒸鍍之工藝對比(bǐ)

作者: 來源: 日期:2020-09-02 11:14:18 人氣:171889
1. 電阻蒸發源蒸鍍發  


A. 加熱:高熔點金屬做成適當形狀蒸發源,電流通過直接加熱(rè)。 


B. 優點:結構簡單(dān)、造價便宜、使用可(kě)靠


C. 缺點:所能到到的最高溫度有(yǒu)限,加熱器壽命較短


D. 適合:熔點不太高,尤(yóu)其對膜層質量要(yào)求不大高(gāo)的大批量生(shēng)產。 


 2. 電子束(shù)蒸發源蒸(zhēng)鍍發 


A. 蒸發材料放入冷水鉗鍋中,利用電子束加熱


B. 優(yōu)點:獲得更大能量密度,使高熔點材料蒸發且速度快,膜的純度較高,熱效率高。


C. 分類:環形(xíng)槍,直槍,e型槍和空(kōng)心陰極槍等幾種。


D. 適(shì)合:高熔點(diǎn),純度要求高的材料。
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