物理蒸鍍就是把物質加熱揮發，然後將其（qí）蒸（zhēng）氣沉積在預定的基材（cái）上。由於蒸發源須加熱（rè）揮發，又是在（zài）真空中進行，故亦稱為熱蒸鍍或真空蒸鍍。

其可分為三個步驟: 

(1)凝（níng）態的（de）物質（zhì）被加熱揮發成汽相  
(2)蒸汽（qì）在具空中移動（dòng）一段距離至基材 
(3)蒸汽（qì）在基材上冷卻凝結成薄膜