真（zhēn）空蒸發鍍膜法（簡稱真空蒸鍍法，Vacuum Evaporation) 是指在一定的真空條（tiáo）件下，利用（yòng）高溫加熱蒸鍍（dù）材料（金屬合金或金屬氧化物）到一定溫度條件下， 

使其原子或分子從表麵汽化逸出，形成蒸汽流，並飛行濺射到玻璃基板表麵凝（níng）結形（xíng）成固態薄（báo）膜的方法（fǎ）。

由於真（zhēn）空蒸鍛法的主要（yào）物理過（guò）程是通過加熱蒸發材料（liào）而產（chǎn）生，所以又稱熱蒸（zhēng）發（fā）法。蒸發源作（zuò）為蒸發裝置的關鍵部件，

大多數蒸發材料都（dōu）要求在1000-2000℃的高溫下蒸發。真空蒸鍍法按蒸發源的不同可分為電（diàn）阻（zǔ）法、電子束蒸發法（fǎ）、高頻感應法和激（jī）光蒸發法等。