真空鍍膜技術是真空應（yīng）用技術的一個重要分支（zhī），它已廣泛地應用於光學、電子學、能源開發（fā），理化儀器、建築（zhù）機械、包裝、民用製品、表麵（miàn）科學以及科學研究等領域中。真空鍍膜所采用的方（fāng）法主要有蒸發鍍、濺射（shè）鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等（děng）。此外還有化學氣相（xiàng）沉積法。如果從真空鍍膜的目（mù）的是為了改變物質（zhì）表（biǎo）麵的物（wù）理、化學性能（néng）的話，這一技術又是真空表麵處理技術中的重要組成（chéng）部分（fèn），其分類如表 6 所示。現（xiàn）就其幾個主要應用方麵做一簡單介紹。

        首先在光學方麵，一塊光學玻璃或石英表麵上鍍一層或幾層不同物（wù）質的薄膜後，即可成為高反射或無反射（即增透膜）或者作任何預期比例的反射或透射材料，也可以作成（chéng）對某種波長的吸收，而對另（lìng）一種（zhǒng）波長的透射的濾色（sè）片。高反射膜從大口徑的天文望遠鏡和各種激光器開始、一直到新型建築物的（de）大窗鍍膜茉莉，都很需（xū）要。增透膜則（zé）大量用於照（zhào）相和（hé）各種激光器開（kāi）始（shǐ）、一直到新型建築物的大窗鍍膜玻璃，都很需要。增透膜則大量用於照相機和電視攝象機的鏡頭上。

        在電子學方麵真空鍍膜更占有極為重要的地位。各種規模的繼承電路。包括存貯器、運（yùn）算（suàn）器、告訴（sù）邏輯元件等都（dōu）要采用導電膜、絕緣膜和保護膜。作為製備電路的掩（yǎn）膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤、半（bàn）導體激光器，約瑟夫遜器件、電荷耦合器件（ CCD ）也（yě）都甬（yǒng）道各種薄膜。

        在顯示器件方麵，錄象磁頭、高密度（dù）錄象帶以及（jí）平麵顯示（shì）裝置的透明導電膜、攝像管光導膜、顯（xiǎn）示管熒光屏的鋁襯等也都（dōu）是采用真空鍍膜法製備。在元件方麵，在真空（kōng）中蒸發鎳鉻，鉻或金（jīn）屬陶瓷可以製造電阻，在（zài）塑（sù）料上蒸（zhēng）發鋁、一（yī）氧化矽、二氧化鈦等可以製造電容器，蒸發硒可以得到靜電複印機用的硒鼓、蒸發（fā）鈦酸鋇可以製造磁致伸縮的起聲元件等等。真空蒸發還可以用於製造超導膜和慣性約束巨變反應用的微珠鍍層。此外還可以對珠寶、鍾（zhōng）表外殼表麵、紡（fǎng）織品金屬花紋、金絲（sī）銀絲線等蒸鍍（dù）裝飾用薄膜，以（yǐ）及采用（yòng）濺射鍍或離子鍍對刀具、模具等製造超硬膜。近兩年內（nèi）所興起的多弧離子鍍製備鈦金製品，如不鏽鋼薄板、鏡麵（miàn）板（bǎn）、包柱、扶手、高檔床托架、樓梯欄杆等目前（qián）正在盛行。