本文從係統結構、參數控製和鍍膜方式等綜述了真空卷繞鍍膜技術研究進展。按結構可分為單室、雙室和多室真空卷（juàn）繞係統，後（hòu）兩者可解決開卷放氣問題並（bìng）分別控製卷繞和鍍膜室各自真空度。卷繞張力控製分錐度、間（jiān）接和直接控製模型，錐度控製模型可解決薄（báo）膜褶皺和徑向力分布（bù）不均的問題；間接張力控製無需傳感器，可用內置（zhì）張力控製模塊的矢量變（biàn）頻器代替；直接張力（lì）控製通過張力傳感器精確測量張（zhāng）力值，但需慣性（xìng）矩和角（jiǎo）速度等多種參數（shù）。真空卷繞鍍膜主要有真空蒸發、磁控濺射等方式，可（kě）用於製備新型高折射率薄膜、石墨烯等納（nà）米材料和柔性（xìng）太陽能電池等半導體器件。針對真（zhēn）空卷繞鍍（dù）膜技術研究現狀（zhuàng）及向產業化過渡存在的問題，最後作了簡要分（fèn）析與展望。

　　真空卷（juàn）繞鍍（dù）膜(卷對卷)是在真空下（xià）應用不同方法在柔性基體上實（shí）現連續鍍（dù）膜的一種技術。它涵蓋真空獲得、機電控製、高精傳動和表麵分析等多方麵內容（róng）。其重點是，在保證鍍膜質量前提下提高卷繞速率、控製鍍膜穩定性及實施在線監控。卷對卷技術成本低、易操作、與柔性基底相容、生產率高及（jí）可連續鍍多層膜等優點。第一台真空蒸發卷繞鍍膜機1935年製成，現可鍍幅寬由500 至2500mm。卷對卷（juàn）技術應用由包裝和裝飾用膜，近（jìn）年逐漸擴大至（zhì）激光防偽膜、導電等功能薄（báo）膜方麵，是未來（lái）柔性電子等行業的主流技術之一。

　　目前（qián），國際前沿是（shì）研究不同製備工（gōng）藝下（xià）功能薄膜特性並完善（shàn）複合膜層製備。卷繞鍍膜機有向大型工業化和小型科研化方向發展的兩種趨勢，國內蘭州真空設備、廣東中環真空設備等公司多生產大型工業卷繞設備， 國外如TW Graphics 和Intellivation 公司等，主要為科研機構提供小型或微型（xíng）卷（juàn）繞鍍膜（mó）機（jī）。

        真空卷繞鍍膜設備分類
　　真空卷對卷設備（bèi）由抽真空、卷繞、鍍膜和電氣（qì）控製等係統組成。據真空室有無（wú）擋板，可分（fèn）單室、雙室和多室結構。單室的收放卷輥和鍍膜輥在同一室中，結構簡單但開卷時放氣會汙染真空環境。雙室結構將係統用擋板隔成卷繞和鍍膜室，卷輥與擋板間（jiān）隙約（yuē）1.5mm，避免了類似開卷放氣（qì）問題。多室常用於製備複合薄膜（mó），在雙室基礎上（shàng）將相鄰鍍膜區（qū）用擋板隔開避（bì）免幹擾。如Krebs 等將Skultuna Flexibles AB 的開普頓擋板固定於兩磁控濺射靶間，板兩側塗覆50μm 的銅層。

　　分隔擋板與真空室壁狹縫越小越好。據鍍膜時輥筒作用分為單主輥和多主輥卷繞鍍膜機。據電機個數（shù），則可分為兩電機、三電機和四電機驅動係統。

        總結與（yǔ）展望

　　真空卷繞鍍膜因其大麵積、低成本（běn）、連續性等特點（diǎn），比間歇式（shì）鍍膜有很大優勢，廣受國內外研究者和（hé）企（qǐ）業關注。當前（qián）卷繞鍍膜技術（shù）進展較快，解（jiě）決了（le）鏤空線（xiàn）、白（bái）條、褶皺等問題，開始用於製備石墨（mò）烯、有機太陽能電池（chí）和（hé）透明（míng）導電薄膜等新型功能介質與器件。故對製膜過程和成（chéng）膜質量提出了更高要求，真空機組主泵（bèng）選擇從大（dà）抽速擴散泵發展到無油超高真空分子泵和低溫泵，開發出了大包角雙冷卻（què）輥鍍膜機以減小薄膜拉伸變形。張力控（kòng）製多（duō）用考慮夾感應張（zhāng）力的收卷模型和單跨非線性動力學的放卷模型。

　　目（mù）前卷繞鍍膜的精密控製有待提高，例如轉印石墨烯時，難以徹底去除基底和石墨烯（xī）間的熱解膠，且卷繞速度過快（kuài）或（huò）基底較硬引發的切應力會使石墨烯層形成裂縫或孔洞。又如，真空卷繞發製備（bèi）的有機薄膜表（biǎo）麵缺陷多，載流子遷移（yí）率較低，進而嚴重影響其器件的光電特性。未來應（yīng）增設薄（báo）膜應力等測控單元，融合（hé）CVD、離子鍍、高（gāo）壓靜電紡絲、真空噴射和原位聚合等成膜技術，為開發（fā）新型有機及其無機複合功能薄膜和器件提供保障。

下一個：真空（kōng）鍍膜設備原理