磁控濺射真空鍍膜機需要鍍膜的被稱為基片，鍍的（de）材（cái）料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。蒸（zhēng）發鍍膜（mó）一般是加熱（rè）靶材使表麵組分以（yǐ）原子團或離子形式被蒸發出來。並且沉降在基片表麵，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。 對於濺（jiàn）射類（lèi）鍍（dù）膜，可以簡（jiǎn）單理解為利（lì）用電子或高（gāo）能激光轟擊靶材，並使表麵（miàn）組分（fèn）以原子團或離子形式被濺射出來，並（bìng）且最終沉積在基片表麵，經曆成膜過程，最終形成薄膜。

使用步驟：
電控櫃操（cāo）作
1、開水泵、氣源。
2、開總電源。
3、開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小於10後，再進（jìn）入下一步操作。約（yuē）需5分鍾。
4、開機械泵、預（yù）抽，開渦輪分子泵電源、並啟動，真空計（jì）開關換到V2位置，抽到小於2為止，約需（xū）20分鍾。
5、觀察渦輪分子泵讀數到達250以後，關預抽，開前級（jí）泵和高真空閥（fá）繼續抽真空，抽真空到達一定程度後才（cái）能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到（dào）達2×10-3以後才（cái）能打開電子槍電源。

DEF-6B操（cāo）作：
1. 總電源。
2. 同時開電子槍控製Ⅰ和電子槍控製Ⅱ電源：按電子槍控製Ⅰ電源（yuán）、延時開關，延時、電源及保護燈亮，三（sān）分鍾後延時及（jí）保（bǎo）護燈滅，若後門未（wèi）關好或（huò）水流繼電器有（yǒu）故障，保護燈會常亮。
3. 開高壓，高（gāo）壓會達到10KV以上，調節束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電（diàn）流（liú）1.2A，偏轉電流在1~1.7之（zhī）間擺動（dòng）。

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