用來進行介質膜的濺射，如在玻璃上鍍ITO膜之前需鍍（dù）上一（yī）層SiO2擴散隔離層，該SiO2膜就是采用（yòng）射頻濺射。
通常（cháng）在濺射過程中（zhōng）輝光（guāng）放電中的離（lí）子撞擊（jī）到陰極時，會與陰極的（de）電子中和，是的濺射現象可以繼（jì）續進行。
但（dàn）若靶材本身不導電的話，離子撞擊到靶材上沒有電子中和（hé），
正電荷（hé）一直累積，使與後來的離子排斥，這（zhè）會造成取代直流電源（yuán），使可解決此離子撞擊現象的停頓。
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