對於真空（kōng）鍍膜機（jī）設備的分類，到底（dǐ）了（le）解多少？
真空鍍（dù）膜機主要指一類需要在較高真（zhēn）空度下進行的鍍膜設備，包括真空離子蒸發（fā）鍍膜機、磁（cí）控濺鍍膜（mó）機射、
MBE分子束外延鍍膜機和PLD激光（guāng）濺（jiàn）射沉積鍍膜機等很多種。

主（zhǔ）要是分成蒸發和濺（jiàn）射兩種。
在真空鍍膜設備中（zhōng）需要鍍膜的被（bèi）成為基片，鍍的（de）材料被成為靶材。
基片與靶材（cái）同在真（zhēn）空腔中（zhōng）。
蒸發鍍膜（mó）一般是加熱靶材使表麵組分（fèn）以原子團或離子形式被蒸發出來（lái），並且沉降在基片表麵，通過成膜過程形成薄膜。

真空鍍膜機對於濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，並使表麵組分以原（yuán）子團或離子形式被濺射出來，
並且最終（zhōng）沉積在基片表麵，經曆成膜過程，最終形成薄膜。爐體可選擇由不鏽鋼、碳鋼或它們的組合製成的雙層水冷結構（gòu）。

根據工藝要求選擇不同規格及類型鍍膜設備，其類型有電（diàn）阻蒸發真空鍍膜設備（bèi）、電子束蒸發真空鍍膜設備、
磁控濺射真空鍍膜設備、離子鍍真空鍍膜設備、磁控反應濺射真空鍍膜設備、空心陰極離子鍍和多弧離子鍍等。
夾具運轉形式有自（zì）轉、公轉及公轉+自轉方式，用（yòng）戶可根據片尺寸及（jí）形狀提出相應（yīng）要（yào）求，轉動的速度範圍及轉（zhuǎn）動精度：普通可調及變頻調速等。