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PVD直流圓柱靶磁控濺射卷繞鍍金

作者: 來源:PVD薄膜 日期:2020-06-23 17:17:54 人(rén)氣:98367

卷繞鍍金靶材製作方便並且簡單,由SUS靶材和Ti靶進行鍍Tin獲得次磁(cí)場線,對SUS靶材進行噴塗24K金加工便造成靶材製作。 

 

選擇(zé)圓柱(zhù)靶最(zuì)大(dà)的(de)優勢在於對貴(guì)金屬Au的有限利用率,節(jiē)省加工成本,以及可以獲得更多的顏色。 

 

卷繞鍍金采用在圓柱直流靶材上通過卷繞各種不同材質的絲使純Au直流靶變成多樣化(huà)複合Au靶材,常用卷繞材質有Cu, Ni, Al, Ag等,可以製備的顏色有

IPG1N  (L值:88     a值:3.5     b值:27)

IPG2N  (L值(zhí):88     a值:6         b值:32)

IPG3N     (L值:90     a值:3.5     b值:38)

IPSSG     (L值:85     a值(zhí):2         b值(zhí):21)

IPRG       (L值:86     a值:11       b值:19)

IPYG       (L值:87     a值:7.5      b值:29)

具體顏色由卷繞絲和數量決定,以上(shàng)僅常(cháng)用Au顏色。

下(xià)一個(gè):常用的(de)塗層
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