真空鍍膜設備多弧離子鍍膜上的創新方（fāng）法（fǎ），所謂多弧離子鍍膜（mó）就是置待鍍（dù）材料和被鍍基板於室內，

真空鍍膜機多弧離子鍍膜采用（yòng）一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發或升華，並飛行濺射到被鍍基板（bǎn）表麵凝聚成膜的工藝。

多弧離子鍍膜的方法，在條件（jiàn）下成膜有很多優點，可減（jiǎn）少蒸發材料的原子、分子在（zài）飛（fēi）向基板過程中於分子（zǐ）的碰撞，

減少氣體中的活性分子和蒸發源材料間的化學反應（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進入薄（báo）膜中成為雜質的量，從而提供膜層（céng）的致密度、純度、沉積（jī）速率和與基板的附著力。

真空鍍膜設（shè）備多（duō）弧離子鍍膜（mó）工（gōng）藝不僅（jǐn）避免了傳統表麵處理的不足，且各項技術指標都優於傳統工藝（yì），在五金、機械、化工、模具、電子、儀器等領域有廣泛應用。

催化液和傳統處理工（gōng）藝相（xiàng）比，在技術上有哪些創新？

1、多弧離子鍍膜不用電（diàn）、降低了成本（běn）、成本僅為多弧離子鍍（dù）膜鎳的二分之（zhī）一，真空鍍膜機多弧離子鍍膜鉻的三分之一，不鏽鋼的四分之一，可反複利用，大（dà）大降低了成本。