一. 鍍層附著性能好 

普通真空鍍膜時，蒸發（fā）料粒子大約隻以一個電子伏特的能量向（xiàng）工件表麵蒸鍍，在工件表麵與鍍層之間，形（xíng）成的界麵擴散深（shēn）度通常僅為幾百個（gè）埃（10000埃=1微米=0.0001厘米）。也就是說比一根頭發絲的百分之一還要小。兩者間可以說幾（jǐ）乎沒有連接的過渡層，好似截然分開（kāi）。而離子鍍時，蒸發料粒子電離後具有三千到（dào）五千電子伏特的動能。如果說普通真空鍍膜的粒（lì）子（zǐ）相當（dāng）於（yú）一個氣喘籲籲的長跑運動員，那麽離子鍍的粒子則好似乘坐了（le）高速火箭的乘客，當其高速轟擊工件時，不但沉積速（sù）度快，而且（qiě）能夠穿透工件表麵，形成一種注（zhù）入基體很深的擴散層，離子鍍（dù）的界麵（miàn）擴散（sàn）深度可達四至五微米，也就是說（shuō）比普通真空鍍膜的（de）擴散深度要深幾十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特別牢。對（duì）離（lí）子鍍後（hòu）的試件作拉伸試驗（yàn）表明，一直拉到快要斷裂時，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸，無起皮（pí）或剝落現象發生（shēng）。

二.繞鍍能力強

離子鍍時，蒸發料粒子是以帶電離子的（de）形式在電場中沿著電力線方向運動，因而凡（fán）是有電場存（cún）在的部位，均能獲（huò）得良好鍍（dù）層，這比普通真空鍍膜隻能在直射方向上獲得鍍層優（yōu）越得多。因此，這種方法非常適合於鍍複零件上的內孔、凹（āo）槽和窄縫。用普通（tōng）真空鍍膜隻（zhī）能（néng）鍍直（zhí）射表麵，蒸發料粒子（zǐ）尤如攀登雲梯一樣，隻（zhī）順梯而上；離子鍍則能（néng）均勻地繞鍍（dù）到（dào）零件的背麵（miàn）和內孔中，帶（dài）電離子則好比坐上了直升飛機，能（néng）夠（gòu）沿（yán）著規定（dìng）的航線飛抵其活（huó）動半徑範圍內的任何地方。

三. 鍍層質量好（hǎo）

離（lí）子鍍的鍍（dù）層組織（zhī）致密、無針孔、無氣泡、厚度均勻。甚至棱麵和凹槽都可均勻鍍複，不致形成（chéng）金屬瘤。像螺紋（wén）一類的零件也能鍍複，由於這種工藝方法還能修補工件表（biǎo）麵的微小裂紋和麻點等（děng）缺陷，故可有效地改善被鍍零件的表麵質量和物理機械性能。疲勞試驗表明，如果處理得當，工件（jiàn）疲勞壽命可比（bǐ）鍍前高百分之二、三十.