無論監控儀精（jīng）度怎樣，它也隻能控製（zhì）真空室裏單點位置的（de）膜厚，一般（bān）來講是工件架的（de）中間（jiān）位置。如果真空電鍍設備此位置的膜厚不（bú）是絕對均勻的，那麽遠（yuǎn）離中心（xīn）位置的基片就無法得到均勻的厚度。雖然屏蔽罩能消除表現為長期的不均勻性，但有些膜厚度的變化是由蒸發（fā）源的不（bú）穩定或膜（mó）材的不同表現而引起的，所以（yǐ）幾乎是不可能消除的，但對真空（kōng）室的結（jié）構（gòu）和蒸發源（yuán）的恰當選擇可以使這些影（yǐng）響最小化。
　　在過去幾年中，越來越多（duō）的用戶要求鍍膜（mó）係統製造（zào）廠家提供高性（xìng）能的小規格、簡便型光學鍍膜係統，同時，用戶對性能的要（yào）求（qiú）不僅沒有降低，反而有所提高，特別是在薄膜（mó）密度和保證吸水後（hòu）光譜變化最小化等方麵（miàn）。
　　現在（zài），係統的平均尺寸規格已經在降低，而應用小規格設備進行光學鍍膜的生產也已（yǐ）經轉變成（chéng）為純技術問題。因此，選用現代（dài）化光學（xué）鍍膜係（xì）統的關鍵取決於對以下因（yīn）素的（de）認真考慮：對鍍膜產品的預期性能，基片的尺寸大小和物理特（tè）性以及保證高度一（yī）致性工藝所必需的（de）所有技術因（yīn）素。

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