真空鍍膜機主要指一類需（xū）要在較高真空度（dù）下進行的鍍膜，具體（tǐ）包（bāo）括很多種類，包括真空離（lí）子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很（hěn）多種。今天，昆（kūn）山浦元真空技（jì）術工程有限公司為（wéi）您介紹以下幾種（zhǒng）鍍膜機（jī）工（gōng）作（zuò）原理：
    

        一、空心陰極離子鍍原理

               在本底真空為高真空的條件下，由陰極中通入氬器氣（1-10-2）在陰（yīn）極與輔助陽極之間加上引弧電壓，使氬氣發生輝光放電（diàn），在空心陰極內產生低壓等離子體放電，陰極溫（wēn）度（dù）升高到2300-2400K時，由冷陰極（jí）放電轉為熱陰極（jí）放電，開始熱電子發射，放電轉為（wéi）穩定狀（zhuàng）態。通入反應氣體，可以製化合膜。

        二、測控濺（jiàn）射工作原理

              先將真空室預抽至10-3Pa，然後通入氣體（如氬氣），氣壓為1-10 Pa時，給靶（bǎ）加負電壓，產生輝光放電，電子在電場正作用下加速飛向基片時，與氬原子碰（pèng）撞，電（diàn）離出Ar和另一個電（diàn）子；轟擊靶材，由二次電子電離的 越來越多，不斷轟擊靶材；磁場改變電子的運動方向，以電磁場束縛和延長電子的運動軌跡，從而提高電子對工作氣體的電離幾率（lǜ）。

        三、多弧離子鍍工作原理

               其（qí）工作（zuò）原理為冷陰極自持弧光放電，其物理基（jī）礎為場致發射。被鍍材料接陰極，真空室接陽極，真空室抽為高真空時，引發電極啟動器，接（jiē）觸拉開，此時，陰極與陽（yáng）極之間形成穩定的電弧放電，陰極表（biǎo）麵布滿飛速（sù）遊動的陰極斑，部分離子對陰極斑的轟擊使其變成點蒸發源，以若幹個電弧蒸發源為核心的為多弧離子鍍。

        四、電阻蒸發（fā）式鍍膜機

               膜材即（jí）要鍍的材（cái）料放於蒸發舟中，置於真空室中，抽到一定真空時（shí），通過電阻加（jiā）熱膜材，使其蒸發，當蒸發分子的平均自由程大於蒸發（fā）源至（zhì）基片的線性尺寸時，原子和（hé）分子從蒸發（fā）源（yuán）中逸出後，到達基（jī）片形成膜。為了使膜厚均勻（yún），可以利用（yòng）電機（jī）帶動基片（piàn）旋轉，並用（yòng）膜（mó）厚儀控製膜厚，製出優（yōu）質膜。

        五、E型槍工作原理（lǐ）

               陰（yīn）極燈絲加熱後發射具有0.3    EV初動能的熱電子，這些熱電子在燈（dēng）絲陰極與陽極之間的電場作用下加速並會聚成束狀。在電磁線圈的磁場中，電子束沿E x B的方向偏轉（zhuǎn），通（tōng）過陰極時，電子的能量提高到10KV，通過陽極電子偏（piān）轉270度（dù）角而入（rù）射坩堝內的膜（mó）材表麵上，轟擊膜材使其蒸發。

        六、PCVD鍍膜工作原理（lǐ）

               將被鍍件（jiàn）放在低壓輝光放電的陰極上，通入適當（dāng）氣體，在一（yī）定溫度下，利（lì）用化學反（fǎn）應和離子轟擊相結合的過程，在工（gōng）件表麵獲得塗層。

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