化學氣相沉積是一種製備材料的氣相（xiàng）生長（zhǎng）方法，它是把一種或幾（jǐ）種（zhǒng）含有構成（chéng）薄膜元素的化合（hé）物、單質（zhì）氣體通入放置有基材的反應室，借助空間氣相化學反應在基體（tǐ）表麵上沉積固態薄（báo）膜的工藝技術。化學氣相沉（chén）積(Chemical vapor deposition，簡稱（chēng）CVD)是反應物質在氣態條件下發生（shēng）化學反應，生成固態物質沉積在加熱的固態基體表（biǎo）麵，進而製得固體材料的工藝技術。它本（běn）質（zhì）上（shàng）屬於原子範疇的氣態（tài）傳質過程。與之相對的是物理氣相沉積（PVD）。