CJ係列（liè）磁控濺射真空鍍膜（mó）機的磁控濺（jiàn）射工作原理，所謂（wèi）“濺射”就是用（yòng）荷能粒子（通常用氣體正離子）轟擊物體，從而引起物體表麵原子從母體中逸出的現象。早在1842年Grove在實驗室中就發現了這種現（xiàn）象。磁控濺射靶采用靜止電磁場，磁（cí）場為曲線形，均勻電場（chǎng）和對數電場（chǎng）則分（fèn）別用於平麵靶和同軸圓柱靶。電子在電（diàn）場作用下，加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞。若電子具有（yǒu）足夠的能量（約為（wéi）30ev）時，則電離出Ar+並產生電子，電子飛向基片，Ar+在電場作用下，加速（sù）飛向陰極（濺射靶（bǎ））並以高能量轟擊靶表麵，使靶材發生濺射。 

廣泛應用於家電電器、鍾表、高爾夫球（qiú）頭、工藝美術品、玩具、車燈反光（guāng）罩（zhào）、手（shǒu）機按鍵外殼以及儀（yí）器儀表、塑料、玻（bō）璃（lí）、陶瓷、磁磚等表麵裝飾性鍍膜（mó）及工（gōng）模具的功能塗層，在鍍（dù）製超黑膜、純金裝飾膜（mó）、導電膜等領域有優勢（shì）。

1）、膜厚可控性和重複性好。能夠可靠的鍍製預定厚度的薄膜，並且濺射鍍膜可以在較大的表麵上獲得厚度均勻的膜層；
2）、薄膜與基片的附著力強。部分高能量的濺射原子（zǐ）產生不同程度的注入現象，在基（jī）片上形（xíng）成一層濺射原子與基片原子相互（hù）溶合的偽擴散（sàn）層；
3）、製備特（tè）殊材料的薄膜，可以使用不同的（de）材料同（tóng）時濺射製（zhì）備（bèi）混合膜、化合膜，還（hái）可濺（jiàn）射成TiN仿金膜；
4）、膜層純度高，濺射膜層中不會混入坩鍋加熱器材料的成份。
5 )、裝備低溫離子輔助源，無需加熱直接（jiē）常溫冷鍍成膜（mó），節能（néng）省電，提高產能。