工（gōng）作原理可分為：電阻（zǔ）加熱蒸發真空卷繞鍍膜設備；感應加熱蒸發真空卷繞鍍膜設備；電子束加熱蒸發真空卷繞鍍膜（mó）設備；磁控濺射真空卷繞鍍膜設備等。其中電子（zǐ）束加熱真空卷繞鍍膜設備用於大量蒸鍍高熔點物（wù）質如Si02.而（ér）磁控濺射原理的卷繞鍍膜設備生產效率較低，但具有鍍膜適應範圍寬膜層附著牢的（de）優點。

1、CJRW係列主要應（yīng）用在柔性線路板、ITO透明導電膜、薄（báo）膜電容、汽車貼膜、薄膜（mó）太陽能（néng）電池、柔性太陽能電池等方麵。采用磁控濺射鍍膜技術，配備直流、中頻或射頻磁控濺射係統，適合鍍製金（jīn）屬膜、導電膜、合計膜（mó）、介質膜等。 
2、SFRW係列采（cǎi）用電子束蒸發鍍膜（mó）技術，適合（hé）在PET、PVC、PI、CPP等薄膜表麵鍍製透明高阻（zǔ）包裝（zhuāng）膜、防偽膜、幻彩膜、光學膜、介質膜等。
3、ZFRW係列主要應用在印刷包裝膜、包裝（zhuāng）紙、金銀（yín）線、電容膜、功能薄膜等方麵。設備采用先進的高頻感應蒸發或者連續送絲（sī）蒸發等技術，整個過程全自動控製。