CJ係列磁控濺射真空鍍膜機的（de）磁控濺射（shè）工作原理，所謂“濺射”就是用荷能（néng）粒子（通常用氣（qì）體正離子（zǐ））轟擊物體（tǐ），從而引起（qǐ）物體表麵原（yuán）子（zǐ）從母體中逸出的現象。早在1842年Grove在實驗室中就發現了（le）這種現象。磁控濺射靶采用靜止電磁場，磁場為曲線形，均勻電場和對數電場則分別用於平麵靶和同軸圓柱靶。電（diàn）子在電場作用下，加速飛向基片的過程中與氬原子發生（shēng）碰撞。若電子具有足夠的能量（約為30ev）時，則電離出Ar+並產生電子，電子飛向基片，Ar+在電場作用下，加速飛向（xiàng）陰極（濺射靶）並以高（gāo）能量（liàng）轟擊靶表麵，使靶材發生濺（jiàn）射。 

廣泛應用於家電電器、鍾（zhōng）表、高爾夫球（qiú）頭、工藝美術品、玩具、車燈反光罩、手機按鍵外殼以及儀器儀表、塑（sù）料、玻（bō）璃（lí）、陶瓷、磁磚等表麵裝飾性鍍膜及工模具的功（gōng）能塗層，在鍍製超黑膜、純金裝飾膜、導電（diàn）膜等（děng）領域有（yǒu）優勢。

1）、膜（mó）厚可控性和重複性好。能夠可靠的鍍製預定厚度的薄膜，並且濺射鍍膜可以在較大的表麵上獲得厚度（dù）均勻的膜層（céng）；
2）、薄膜與基片的附著力強。部分高能量的濺射原子產生不同程度的注（zhù）入現象，在基片上形成一（yī）層濺射原子與（yǔ）基片原子相互溶合的偽擴（kuò）散層（céng）；
3）、製備特殊（shū）材料的（de）薄膜，可以使用不同（tóng）的材料同時濺射製備混合膜、化合膜，還可濺射成TiN仿金（jīn）膜；
4）、膜層純（chún）度高（gāo），濺射膜層中不會混入（rù）坩鍋加熱（rè）器材料的成份。
5 )、裝備（bèi）低溫離子輔助（zhù）源，無（wú）需加熱直（zhí）接常溫冷鍍成膜，節能省電，提高產能。