CJ係列磁控（kòng）濺射真空鍍膜機的磁控濺射工作原理，所（suǒ）謂“濺射”就是用荷能粒子（通（tōng）常用氣體正離子（zǐ））轟擊物體，從而引（yǐn）起物體表麵原子從（cóng）母體中逸出的（de）現象。早在1842年Grove在實驗室中就發（fā）現了這種現象。磁控（kòng）濺射靶采用靜止電磁場，磁（cí）場為曲線形，均（jun1）勻電場和對數電場則分別用於平麵（miàn）靶和同軸圓柱靶。電子在電場（chǎng）作用下，加速飛向基片的（de）過程中與（yǔ）氬原子（zǐ）發生碰撞。若電（diàn）子具有足夠的能量（約為30ev）時，則電（diàn）離（lí）出Ar+並產生電子，電子飛向基片，Ar+在電（diàn）場作用下，加速飛（fēi）向陰極（濺射（shè）靶（bǎ））並（bìng）以高能量轟擊靶表麵，使靶材發生濺射。 

廣（guǎng）泛應用於家電電器、鍾表、高爾夫球頭、工藝美術品、玩具、車燈反光罩、手機按鍵外殼以及儀器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表麵裝飾（shì）性鍍膜及工模具的功能塗層，在鍍製超（chāo）黑膜、純金裝飾膜、導電膜等領域有（yǒu）優勢。

1）、膜厚可控性和重複性好。能夠可靠的鍍（dù）製預定厚度的薄膜，並且濺（jiàn）射鍍膜可（kě）以在較大的表麵上獲得（dé）厚度（dù）均勻的膜層；
2）、薄膜與基片的附著力強。部分高能量的濺射原子產生不同程度的注入現象，在基片上形成一層濺射（shè）原子與基片原子相互溶合的偽擴散層；
3）、製備特（tè）殊材料（liào）的（de）薄膜，可以使用不同的材料同時濺射製備混合膜、化合（hé）膜，還可濺（jiàn）射（shè）成TiN仿金膜（mó）；
4）、膜層純度高，濺射膜（mó）層中（zhōng）不（bú）會混入坩鍋加熱器材料的成份。
5 )、裝備低溫離子輔助源，無需加熱直接常溫冷鍍成膜，節（jiē）能省電，提高產能。