工（gōng）作原理可分為：電阻加熱蒸發真空卷繞鍍膜設備；感應加熱蒸發（fā）真空卷繞鍍膜設備；電子束加熱蒸（zhēng）發真空卷繞鍍膜設備；磁控濺射真（zhēn）空卷繞鍍膜設備等。其中電子束加熱真空卷繞鍍膜設備用於大量蒸鍍高（gāo）熔（róng）點（diǎn）物質如Si02.而磁控濺射原（yuán）理的卷繞鍍膜（mó）設備生產效率較低，但具有鍍膜適應（yīng）範圍（wéi）寬膜層（céng）附著牢的優點。

1、CJRW係列（liè）主要應（yīng）用（yòng）在柔性線路板、ITO透明導電膜、薄膜電容、汽車貼膜、薄膜太陽（yáng）能電池、柔（róu）性太陽能電池等方麵。采用磁控濺射鍍膜技術，配備直（zhí）流、中頻或（huò）射頻磁（cí）控濺射係統，適合（hé）鍍製金屬（shǔ）膜、導電膜、合計膜、介質膜等。 
2、SFRW係列采（cǎi）用電子（zǐ）束蒸發鍍膜技術（shù），適合（hé）在PET、PVC、PI、CPP等（děng）薄膜表（biǎo）麵鍍製透明高阻包裝膜、防偽膜、幻彩膜、光學膜、介質膜等。
3、ZFRW係列主要應用在印刷包（bāo）裝膜、包裝紙、金銀線、電容膜、功能薄膜（mó）等方麵。設（shè）備采用先進的高頻感應蒸發或者連續（xù）送絲蒸發等技術，整個過程全（quán）自（zì）動控製。