磁控濺射是（shì）一種 (PVD) 工藝，是製造半導（dǎo）體、磁盤驅動器、CD 和光學器件的主要薄膜沉積方法。以下是磁控（kòng）濺射中常見的問題。小編列出了可能的原因和相關解決（jué）方（fāng）案供您參考（kǎo）。

● 問題一：薄膜（mó）灰黑或暗黑
● 問題二：漆膜表麵暗淡（dàn）無光（guāng）澤
● 問題三：薄膜顏色不均勻
● 問題四：起皺、開裂
● 問題（tí）五：薄（báo）膜表麵有水印、指紋和灰粒

 薄膜灰黑或暗黑（hēi） 
丨真空度（dù）小於（yú）0.67Pa；真空度應（yīng）提高（gāo）到0.13-0.4Pa。
丨氬氣純度小於（yú）99.9%；氬氣應更換（huàn）為純度為 99.99%。
丨充氣係統漏氣；應檢查充（chōng）氣係統以消除漏氣。
丨薄膜未充分固化；薄膜的固化時間應適當延長。
丨（shù）鍍件排出的氣體量過大；應進（jìn）行幹燥和密封。

 漆膜表麵無光澤 
丨薄膜固（gù）化不良或變質；應延（yán）長薄膜固化時間或更換底漆。
丨磁控濺射時間過（guò）長；施（shī）工時間應（yīng）適（shì）當縮短。
丨磁控濺射成膜速度太快；磁控濺射電流或電壓應適當降低。

 薄膜顏色不均勻 
丨底漆噴塗不均；底漆的使（shǐ）用方法有待改（gǎi）進。
丨膜層太薄；應適當提高磁控濺射（shè）速率或延長磁控濺射時間。
丨夾具設計不合理；應改進夾具設計。
丨鍍（dù）件幾何形狀過（guò）於複（fù）雜；鍍件的轉速應適當（dāng）提高。

 起皺、開裂 
丨底（dǐ）漆噴得太厚；應控製噴霧的厚度。
丨塗層粘度過高（gāo）；應適當降（jiàng）低塗料的粘度。
丨蒸發速度過（guò）快；蒸發速度應適當減慢。
丨膜層太厚；濺射時間應適當縮短。
丨電鍍溫度過高；鍍件的加熱時間應適當縮短。

 薄膜表麵有（yǒu）水印、指紋和灰粒 
丨鍍（dù）件清洗後未充分幹（gàn）燥；應加強鍍前處理。
丨在鍍件表麵潑水或唾液（yè）；加強文明生產，操（cāo）作人員戴口罩。
丨塗底漆後（hòu），手接（jiē）觸鍍件，表麵留下指紋；嚴禁用手觸摸鍍件表麵。
丨有（yǒu）顆粒物，應過（guò）濾或除塵。
丨靜電除塵失敗或（huò）噴塗固化環境有顆粒粉塵；應更換除塵器（qì）並清潔工（gōng）作環境。


除以上常用（yòng）材料外，金屬靶材還有鎳、鋁、鉭、鉿、錳、銅（tóng）、鋅、銦（yīn）、錫、等，均有在鍍膜（mó）中使用。多質靶材如鈦鋁、鉻鋁、鈦鋯、銅錳、鎳鉻、矽鋁、釩錸、鎢鉬等。

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